擦机布加工厂无尘布是广泛使用在电子光学医疗半导体设备中的一种化学布料，对其本身的洁净度和吸收性有很高的要求，要达到“无尘”的效果需要尽可能的减少产品尘粒释放量、腐蚀性离子释放量以及非挥发性残留物释放量。

　　目前，超细纤维无尘布的清洁处理方法是将无尘布用自来水清洗之后，直接再用超纯水清洗，或者进行自来水、RO水、超纯水三级渐进清洗擦机布加工厂。这种清洗方法对于普通易于清洗的涤纶布尚可，然而，对于现在较为常用的超细纤维类的涤锦复合材料无尘布就难以适用，则不能够达到除尘除离子的要求，如果使用没有清洁干净的无尘布擦拭电子光学医疗半导体设备，则会对其造成损伤，甚至是损毁，严重威胁相关设备的安全。

　　本发明要解决的技术问题是提供一种能够有效去除超细纤维类无尘擦拭布上污染尘粒及离子的方法。擦机布加工厂为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种无尘布除尘除离子方法，其特征在于：包含如下步骤：

　　1）将阻值为16MΩ-18.2MΩ的纯水加热到50-100℃，期间加入除油剂或者除尘剂；

　　2）将使用过的无尘布投入上述加热后的纯水中浸泡30-60分钟，其中，无尘布与纯水的浴比为1:（10-40）；

　　3）将无尘布从前述热水中捞出，并用阻值为16MΩ-18MΩ、浴比为1:10的常温纯水清洗一次；

　　4）将步骤3）中得到的无尘布转入清洗机中进行清洗，按以下流程清洗3个循环：将清洗机浴比调为1:40；采用标准清洗方法清洗5分钟；将清洗过的无尘布进行高速脱水。将步骤4）中的无尘布转入无尘烘干机进行清洁烘干。

　　擦机布加工厂本发明通过上述方法，采用热萃取的清洁方式，有效地解决了超细纤维无尘布污染离子的去除问题，能够有效的清除无尘布表面的污染颗粒以及相关的离子，最大限度地保护相关设备的洁净与安全；与传统的清洗方法相比，此方法具有操作简单，除污能力强、成本低的特点。

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